특허청은 10일 "한-미 특허심사하이웨이"를 내년 1월1일부터 시범 운영하기로 미국 특허청과 합의했다고 밝혔다.
특허심사하이웨이 제도가 시행되면 현재 22.6개월(2006년 기준) 걸리던 미국 현지의 1차 심사처리기간이 13.6개월로 약 9개월 가량 줄어들게 될 것으로 보인다.
이는 증빙서류 간소화 및 특허출원 조기 심사 등으로 인해 국내 제약업체의 미국 시장 진출이 용이해진다.
특허하이웨이가 도입되면 한국 특허청이 "해당 발명이 특허가능하"다라는 판단을 내린 경우 이와 관련한 심사관련통지서를 미국 특허청에 제출하게되고 이것이 받아들여지면 기존의 조기 심사신청 시에 제출해야 하는 "선행기술조사결과"와 "특허받으려는 발명과 선행기술과의 대비설명서"를 제출하지 않아도 될 것으로 전망된다.
또 한국 특허청에서 심사받은 특허출원이 이미 공개된 상태일 경우 "특허가능하다"는 판단을 내린 심사관련통지서를 한-미 특허청 간에 구축한 전산네트워크를 통해 양국 특허청 심사관이 입수할 수 있을 것으로 기대된다.
이 경우 발명의 내용이 동일함을 나타내는 간략설명표만을 제출해도 조기심사를 받을 수 있게 된다.
한편 한-미 양국 특허청장은 오는 9월 스위스 제네바에서 회담을 열고 "한-미 특허심사하이웨이" 합의서에 공식 서명한다고 밝혔다.